微影設備巨頭擴產，晶片商提前數年預訂機台

用來印製全球最先進晶片的機台，正被提前數年預訂。主導極紫外光（EUV）微影市場的荷蘭公司ASML在最新季報中表示，客戶對2027與2028年設備的預訂量已超出其現有擴產計畫。據該公司稱，部分核心客戶已開始詢問2029與2030年的供應配額。

ASML計畫明年將兩大核心產品線——低數值孔徑EUV與浸潤式DUV微影——的產能各提高30%，並正在評估2027年的增產幅度能否更高。該公司也已完成與所有主要客戶的新一輪價格談判，顯示需求強勁到足以支撐更穩固的條件。

供應緊張並不限於單一供應商。生產不同類別微影設備的日本佳能與尼康也在擴產，三家合計占據全球決定晶片特徵尺寸能有多小的機台市場大部分份額。當頂級供應商同時增產，通常意味著訂單簿已滿，而非業界預期需求會突然暴增。

這波榮景源自AI。為訓練與運行大型語言模型而建的資料中心需要大量高頻寬記憶體與先進邏輯晶片，兩者都需依賴最先進的微影技術。記憶體製造商與晶圓代工廠爭相在對手之前鎖定設備，使設備預訂成為戰略資產。

對中國而言，情況更為複雜。出口管制限制了取得最先進EUV機台的管道，促使國內企業自行開發替代方案。華為高階主管余承東曾表示，國產EUV設備是現實可行的目標，但未給出時間表。中國晶片產業在成熟製程生產上已有進展，但最先進環節的差距仍然很大。

設備擴產也有長尾效應。微影機台不是單一產品，而是由鏡頭、光源、精密載台與軟體組成的系統，每個供應商都依賴一串專業零組件製造商。一年內增產30%意味著這些供應商也必須同步擴產，而這未必能在相同時程內做到。

對全球晶片製造商而言，訊息是最先進的製造產能將在未來數年持續吃緊。提早鎖定訂單的企業將占優勢；沒有的企業可能只能等待。ASML願意討論2029與2030年配額，顯示該公司預期需求將遠超出當前投資週期而持續強勁。

下一個值得關注的訊號是ASML 2027年的增產幅度是否超過30%，以及佳能與尼康是否跟進提出自身目標。若三家同時上調目標，將證實AI驅動的晶片建設熱潮，比當前訂單簿已顯示的還有更多發展空間。